半導体製造分野向け機器超高濃度・高純度 ピュアオゾン水生成装置
ピュアオゾンガス(≒100%)を適用し、世界トップクラス濃度のピュアオゾン水を常圧で安全に生成できる装置です。
製品特長
- 高濃度
超高濃度独自製法によるピュアオゾンガス（≒100％）と減圧生成方式（特許技術）で超高濃度300mg/Lのピュアオゾン水を安定的に連続生成可能。 - 高純度
酸素などのガスや重金属などの不純物を含まないオゾンガスで高純度を実現 - 減圧生成方式により、急激な濃度の減衰が起きない
- OUR※1プロセス技術
ピュアオゾン水で実現できる強力な酸化促進法を発明、半導体プロセスの高イオン注入レジスト除去に期待（特許技術）
※1 Ozonated water Usage Radical generation - 安全対策
- 本装置は減圧下でオゾンガスおよびオゾン水を生成
- 「高純度・低温・減圧にして危険な反応をさせない」というPOG※2で培った実績のある設計思想を踏襲した安全な装置設計
※2 Pure Ozone Generator
- 規格認証
- 国際安全規格（SEMI-S2、UL、NFPA、CEなど）
※ 2026年度以降取得予定
- 国際安全規格（SEMI-S2、UL、NFPA、CEなど）
- 品質保証
- お客様納入先で性能検証をし、動作確認の上、引き渡し
- 安全性は、第三者機関によるトレーサガステストにより実証済み
ピュアオゾン水
濃度が長時間持続
用途・ソリューション
１．半導体ウエハ高イオン注入レジスト除去
２．カーボン樹脂等の炭素繊維の表面改質
３．工業製品の脱脂洗浄
４．絵の具の顔料等の粉体改質
仕様一覧
| 濃度 | 50～300mg/L※3 |
|---|---|
| 水温 | 5～15℃ |
| 流量 | 0.5～5L/min |
| 純度 | 主要金属イオンsub-pptレベル |
| オゾン水生成方式 | 減圧生成方式 |
| 運転方法 | 連続方式※4 |
| 寸法 （突起物を除く） |
POG：W1,000×D1,224×H1,700mm OWG※5：W1,000×D1,100×H1,930mm |
| 質量 | POG：700kg OWG：700kg |
- ※3より高濃度が必要な場合はご相談ください。
- ※4120h毎に5hの停止(自動再生工程)が発生
- ※5Ozonated Water Generator
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