明電ピュアオゾンジェネレータ

半導体製造分野向け機器高純度オゾンガス発生装置 ピュアオゾンジェネレータ

純度≒100%のオゾンガスを安全に連続して生成できる装置です。

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製品特長

重金属不純物フリーで高純度オゾンガスを連続供給
ピュアオゾン・エチレン技術
低温成膜技術

明電ピュアオゾンジェネレータは、オゾンを液化・蓄積し、連続で高純度オゾンガスを供給する装置です。高純度のため、半導体プロセス用の酸素ラジカル発生源としても使用可能です。また、安全性・信頼性に関しても「高純度・減圧にして危険な反応をさせない」という思想のもと、下記の通り安全な装置設計をしています。

  • 非常時のための防爆設計
  • 停電、異常時はフェールセーフシステムにより温度/圧力制御
  • 停電時の緊急パージ機構
  • オゾン爆発防止のため冷凍機の動作を維持する機能
  • 万一、オゾン爆発が生じた場合でも、外部機器への機械的ダメージを発生させない構造
  • 規格認証:国際安全規格 SEMI-S2、UL、NFPA、CEなどに準拠
  • 品質保証:第三者認証機関によるトレーサガステストにより、ガス漏れに対する安全性を実証

用途・ソリューション

フィルムへの成膜(低温成膜技術)

  • フィルムへの室温レベルでの膜形成

半導体プロセスにおけるアッシング(ピュアオゾン・エチレン技術)

  • 高イオン注入後のアッシング(レジスト除去)

仕様一覧

仕様・外形図についてはカタログをご覧ください。

適用分野

分野 用途 適用技術 期待効果
環境 水処理 ピュアオゾン処理 殺菌、脱臭

リサイクル

炭素繊維分解

医療 新薬製造
(バイオテク)
ピュアオゾン処理 有機合成
フィルム 有機膜 •低温成膜
•ピュアオゾン・エチレン
低温薄膜・バリア性
有機EL 除去・密着・薄膜
食品包装・医療機器 殺菌/バリア性
太陽電池 バリア性
材料 電極部材 ピュアオゾン・エチレン 酸化膜
カーボン・
ナノチューブ
半導体 マスク製造工程 •ピュアオゾン処理
•ピュアオゾン・エチレン
除去
前工程 酸化膜・除去
先端技術 MEMS •ピュアオゾン・エチレン 洗浄・改質
分子線エピタキシー
(MBE)

ピュアオゾン処理

純粋酸化源
プリンテッド・
エレクトロニクス

•低温成膜
•ピュアオゾン・エチレン

改質・密着・低温薄膜
この製品に関するお問い合わせ
[エンジニアリング事業部 営業開発部]

03-3490-4279