明電ピュアオゾンジェネレータ

半導体製造分野向け機器高純度オゾンガス発生装置 ピュアオゾンジェネレータ

純度≒100%のオゾンガスを安全に連続して生成できる装置です。

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製品特長

重金属不純物フリーでオゾンガスを連続供給
添加ガス処理法
UV(紫外光励起)オゾンCVD処理法

明電ピュアオゾンジェネレータは、オゾンを液化・蓄積し、連続で高純度オゾンガスを供給する装置です。高純度のため、半導体プロセス用の酸素ラジカル発生源としても使用可能です。また、安全に関しても十分な対策がとられています。
尚、本装置は、独立行政法人 産業技術総合研究所と共同で開発したものです。

  • 非常時のための防爆設計
  • 停電、異常時はフェールセーフシステムにより温度/圧力制御
  • 国際安全企画 SEMI-S2、UL、NFPA、CEなどに準拠
  • ガスもれに対する安全性は第三者認証機関によるトレーサガステストにより実証

用途・ソリューション

ナノインプリントにおけるスタンパの除去(添加ガス処理法の活用)

  • スタンパに付属したレジストの完全除去

フィルムの表面改質(添加ガス処理法の活用)

  • フィルムの表面改質による濡れ性向上

仕様一覧

仕様・外形図についてはカタログをご覧ください。

適用分野

分野 分類 適用技術 期待効果
環境 水処理 ピュアオゾン処理法 殺菌、脱臭、脱色
医療 医療器具 ピュアオゾン処理法 滅菌・製薬(有機合成)
フィルム FPD関連 添加ガス処理法 タッチパネル用フィルム等の表面改質・コーティング
半導体実装関連 FPC用フィルム等の表面改質・コーティング
食品関連 包装材の表面改質
電池関連 太陽電池用フィルム等の表面改質
材料 部材 ピュアオゾン処理法 カーボンナノチューブ改質・球状シリコン酸化
電池 電極 添加ガス処理法 電極部材改質
半導体 膜形成プロセス •ピュアオゾン処理法
•UVオゾンCVD処理法
•添加ガス処理法
酸化・CVD・絶縁膜改質・アッシング・ドライ洗浄
リソグラフィー フォトマスク改質、精密部品洗浄、EUVL
先端 MEMS •ピュアオゾン処理法
•添加ガス処理法
アッシング・ドライ洗浄
ナノインプリント スタンパのドライ洗浄
微細加工関連 高温超伝導膜・分子線エピタキシー(MBE)
プリンテッド
エレクトロニクス
印刷工程前後の表面改質・コーティング
この製品に関するお問い合わせ
[エンジニアリング事業部 営業開発部]

03-3490-4279