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明電ナノプロセス・イノベーションは、明電舎が長年にわたり培ってきた高純度オゾン生成技術を活かして革新的な製品開発に取り組んでいます。
常温成膜や表面改質などのオゾン応用技術を展開し、お客様の技術課題に共に挑み、またパートナーシップを大切にしながら未来の技術革新に貢献してまいります。

代表取締役 取締役社長 阿波 裕

会社概要

会社名 明電ナノプロセス・イノベーション株式会社
英文会社名 MEIDEN NANOPROCESS INNOVATIONS, INC.
設立年月日 2020年4月1日
役員 取締役社長 阿波 裕
常務取締役 西口 哲也
取締役 柳田 陽子
取締役 外山 栄太郎
所在地

本社
〒141-0032 東京都品川区大崎二丁目8番1号
TEL.03-6420-8630(代表) FAX.03-6420-8450

技術開発
〒262-0013 千葉県千葉市花見川区犢橋町1569-9
TEL.043-258-1633  FAX.043-286-2323

資本金 4億円
事業内容 ピュアオゾンジェネレータおよび成膜装置の開発・設計・製造・販売
主な取引先 株式会社明電舎、国立研究開発法人産業技術総合研究所、東京大学、東京工業大学 、理化学研究所、California Institute of Technology、Centre national de la recherche scientifique、三沢興産株式会社、伯東株式会社、タツモ株式会社、出光興産株式会社

沿革

歴史と経緯 トピックス
1990年代 (株)明電舎で電力用半導体素子(GTO)の開発 この開発部隊が産総研と繋がる
1998年 産業技術総合研究所に高濃度オゾン技術の共同開発を打診 国内外で26の技術の特許取得(産総研と共同特許)
2001年 産業技術総合研究所との共同研究を開始
2005年 ピュアオゾンジェネレータの開発が完了 POG開発・販売についてプレスリリース
2009年 高濃度オゾンとエチレンガスによるOERプロセス技術の発明 世界唯一、独自のプロセスで特許を取得
2011年 装置メーカーより量産受注し、事業化開始 年間5台生産を目途に事業部へ移管
2017年 (株)明電舎でオゾンプロジェクト発足 事業体制の変更
2018年 OER常温成膜技術を開発
米国の装置メーカーより受注
CVD(化学気相成長成膜)プレスリリース/特許取得
2019年 ALD成膜検証成功(ハイバリア成膜) ALD(原子層堆積成膜)プレスリリース/特許出願
2020年 明電ナノプロセス・イノベーション株式会社設立
世界初の常温ALD成膜装置を販売開始
2022年 世界初バッチ式常温ALD成膜技術を確立
世界初低温ダメージレス無接着剤接合技術を確立

学会発表

2024 International 3D Systems Integration Conference (3DIC)
2024 IEEE 74th Electronic Components and Technology Conference (ECTC)
2024 nanotech 出展
第23回国際ナノテクノロジー総合展・技術会議
第1回ARIM量子・電子・スマートマテリアル研究セミナー
MNC2023技術セミナー「ALD技術セミナー」
2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会
2020年第67回応用物理学会春季学術講演会
薄膜技術実践セミナーV
2019年日本表面真空学会学術講演会
2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
2019年第66回応用物理学会春季学術講演会
2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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研究論文
Advanced Functional Materials 2025
Journal of Astronomical Telescopes, Instruments, and System(JATIS)
ADMETA Plus 2023
Phys. Rev. Lett. 125, 147001 「Superconductivity in Uniquely Strained RuO2 Films」
2020 IEEE 70th Electronic Components and Technology Conference (ECTC) 「Low-temperature multichip-to-wafer 3D integration based on via-last TSV with OER-TEOS-CVD and microbump bonding without solder extrusion」
Phys. Rev. B 101, 035107 「Characterization of Sr2RuO4 Josephson junctions made of epitaxial films」
2019 International 3D Systems Integration Conference (3DIC) 「Impacts of Deposition Temperature and Annealing Condition on Ozone-Ethylene Radical Generation-TEOS-CVD SiO2 for Low-Temperature TSV Liner Formation」
2018年日本表面真空学会学術講演会特集号Ⅱ 「高純度オゾンガスとエチレンガス由来の活性種を用いた新たな低温成膜法」
APL Materials 5, 106108 (2017) 「Molecular beam epitaxy growth of superconducting Sr2RuO4 films」
Scientific Reports volume 6, Article number: 26598 (2016) 「MgZnO/ZnO heterostructures with electron mobility exceeding 1×10⁶cm²/Vs」

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