洗浄、クリーニング

ピュアオゾンは、半導体製造や精密機器の洗浄・クリーニングに広く利用されています。特に、ピュアオゾンは高い酸化力を持ち、低分子な有機コンタミを効果的に除去することができます。

除害を含む排気ラインのIn-situクリーニング

半導体製造工程では、電子ビーム描画装置のマスクやミラーのIn-Situ洗浄に使用された実績があります。
ピュアオゾンと有機コンタミの化学反応でCO2やH2Oなどの揮発性物質となり排気します。

排気配管へ真空度を保ったままピュアオゾンガスを常時流入

有機コンタミは 炭化水素 など低分子である程ピュアオゾンと反応しやすく、酸化可能。
炭化水素とオゾンの反応により、CO2、H2Oなどの揮発性物質へ変換され排出されます。

1年間メンテナンスフリー

プロセス中に発生した低分子の有機コンタミを常時ピュアオゾンで分解する事で、配管内に有機コンタミの堆積を防止します。

L字、T字配管へのガス拡散

プラズマが届かない箇所は、ピュアオゾンガスの高い回り込み性でクリーニングします。

ダメージレス

プラズマは不要。オゾンと有機コンタミの化学反応で配管への物理的アタックなし、ダメージレスを実現します。

自由度ある設置

10m以下であれば、クリーンルームの外に設置も可能。デッドスペースにPOGを設置可能。

オゾン供給配管長は 10m以下 まで対応可能
 -配管グレード:SUS316L-EP(電解研磨)
 -配管の保持環境温度:30℃以下

ピュアオゾン、OERでの効果リスト

低分子
有機化合物
(分子量 〜1000
主鎖に二重結合)
高分子
化合物
(分子量 1000〜
側鎖に芳香核あり)
イオン
注入
レジスト
フッ素
化合物
シリコーン化合物
※2
無気
化合物
(シリコンやガラス etc)
ピュアオゾンのみ × × ×
オゾン+熱 ◯ ※1 × ×
OER × ×

横スクロールしご確認ください

オゾン分解性能

オゾン(O₃)は非常に強い酸化力であり、さまざまな有機物を分解する能力があります。
オゾン分解性能は、主に以下の要因に依存します:

  1. 濃度:オゾン濃度が高いほど、分解反応が促進されます。
  2. 温度:処理温度が高いほど、オゾンによる分解性能が向上します。
  3. 対象物質の性質:低分子の有機物であるほど分解しやすく、有機物の種類によって、オゾン分解効果が異なります。

※1 ピュアオゾン+熱で実績ある基材
     ノボラック系レジスト
     アクリル系レジスト
※2 界面活性剤にフッ素系やシリコーン系の
    成分が混合されている場合、
    ピュアオゾンやOERでの除去は難しい