MBE用酸化源
ピュアオゾンは、MBE（分子線エピタキシー）法における酸化源として利用されています。ピュアオゾンは高い酸化力を持ち、高真空下での酸化プロセスにおいて、より高品質な薄膜を得ることができます。
接続実績
国内・海外 大手MBE装置採用・接続実績あり
高純度
重金属フリーのピュアオゾンガス
世界最高レベルのMBE成膜
ピュアオゾンにより平滑な表面と不純物除去を実現し、世界最高レベルのMBE成膜を実現します。
※国内・海外メーカ、研究機関、大学へ複数の採用実績あり
POGに求められる機能・仕様
| 低不純物 | 高純度(ppb)（競合レベル：ppmオーダー） |
|---|---|
| 高純度・高濃度 | 80％以上のオゾン濃度（競合レベル：20％未満） |
| 濃度可変(オプション) | 20~80％以上のオゾン濃度可変 ※オゾン濃度可変オプションもご提案可能です。 |
ピュアオゾンガスは金属汚染フリー
ピュアオゾンガス中に含まれる金属汚染なし。
次世代要素技術開発や、微細加工や超高純度工程において、メタル汚染のリスクを低減でき、製品製造の歩留まりや信頼性を向上が期待できます。
| 元素種 | Al | Ni | Cu | Mo |
|---|---|---|---|---|
| POG | <8.8×109
[atoms/㎠] 検出限界以下 |
<4.0×109
[atoms/㎠] 検出限界以下 |
<3.7×109
[atoms/㎠] 検出限界以下 |
<2.5×109
[atoms/㎠] 検出限界以下 |