OER装置
装置概要
ピュアオゾンとエチレンガスの化学反応により、高活性なOHラジカルを効率的に生成する、最先端の技術を備えた装置です。常温、短時間で表面処理や改質、接合の前処理、洗浄・クリーニングなど様々な分野で活用いただけます。
シャワーヘッド構造を採用
- 当社独自の特許
- シャワーヘッドよりピュアオゾン、エチレンガスを基材に吹付 け、均一なOER処理が可能/圧力制御
- リモートプラズマと比較して精密な制御が可能
製品ラインナップ
以下装置標準仕様をベースに各種カスタマイズ対応が可能です。
| 使用環境 | 15~30°C、35~70%RH |
|---|---|
| 装置サイズ | 1,300(W) x 1,000(D) x1,800(H) |
| 基板サイズ | 基板(ガラス 樹脂)：300mm |
| 基板温度 | 常温~150°C |
| 基板交換方式 | スライドトレイへ手動セット |
| オゾン濃度 | 80%以上 ※ガス供給口、 減圧下 |
・カスタマイズ対応項目
基板種類、基板サイズ、基板温度、基板交換方式
インタフェース
※2023年に出荷したお客様向けの画面となります。
導入事例
無アルカリガラスへのOER改質（表面処理）
短時間・低温処理での超親水化
プラズマと比較し、常温かつ短時間、また化学反応で表面処理する為、下地への物理的なアタックはなく、基材表面のダメージレス、表面粗さ変化なしを実現できます。
またOER処理後から3日間など長時間の改質効果を維持できます。
OERレジストアッシング
OERは常温でアッシングが可能です。高イオン注入後のフォトレジストもポッピング無しで除去できます。またOERは化学反応で処理する為、処理炉の汚染が起きにくいです。
親水化接合前処理
■OERはピュアオゾンとエチレンガスの混合でOHラジカルを発生させる為、水洗浄が不要です。その為、アニール温度を低減する事ができます。
■OERは下地基材との化学反応である為、プラズマ処理のような基材への物理的アタックはありません。その為、基材へのダメージレスを実現、かつ削る要素が無い為、ダストレスを実現できます。