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明電ピュアオゾンジェネレータ

製品情報高純度・高濃度オゾンガス発生装置 ピュアオゾンジェネレータ

純度≒100%の高純度・高濃度オゾンガスを安全に連続して生成できる装置です。

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製品特長

重金属不純物フリーで高純度オゾンガスを連続供給
ピュアオゾン・エチレン技術
低温成膜技術

明電ピュアオゾンジェネレータは、オゾンを液化・蓄積し、連続で高純度・高濃度オゾンガスを供給する装置です。重金属フリーで高純度のため、半導体プロセス用の酸素ラジカル発生源としても使用可能です。また、安全性・信頼性に関しても「高純度・減圧にして危険な反応をさせない」という思想のもと、下記の通り安全な装置設計をしています。

  • 非常時のための防爆設計
  • 停電、異常時はフェールセーフシステムにより温度/圧力制御
  • 停電時の緊急パージ機構
  • オゾン爆発防止のため冷凍機の動作を維持する機能
  • 万一、オゾン爆発が生じた場合でも、外部機器への機械的ダメージを発生させない構造
  • 規格認証:国際安全規格 SEMI-S2、UL、NFPA、CEなどに準拠
  • 品質保証:第三者認証機関によるトレーサガステストにより、ガス漏れに対する安全性を実証

用途・ソリューション

基材(フィルム・樹脂等)への成膜(常温成膜技術)

  • フィルムへの室温レベルでの膜形成

高機能フィルム等の熱に弱い素材に対しても、フィルムに熱・プラズマダメージを与えることなく、常温での成膜が可能です。

半導体プロセスにおけるアッシング(ピュアオゾン・エチレン技術)

高イオン注入レジストが付いたシリコン基板へのアッシングも、ポッピングを起こすことなく処理することが可能です。

  • 高イオン注入後のアッシング(レジスト除去)

仕様一覧

仕様・外形図についてはカタログをご覧ください。

適用分野

分野 用途 適用技術 期待効果
環境 水処理 •ピュアオゾン処理 殺菌、脱臭

リサイクル

炭素繊維分解

医療 新薬製造
(バイオテク)
•ピュアオゾン処理 有機合成
フィルム 有機膜 •低温成膜
•ピュアオゾン・エチレン
低温薄膜・バリア性
有機EL 除去・密着・薄膜
食品包装・医療機器 殺菌/バリア性
太陽電池 バリア性
材料 電極部材 •ピュアオゾン・エチレン 酸化膜
カーボン・
ナノチューブ
半導体 マスク製造工程 •ピュアオゾン処理
•ピュアオゾン・エチレン
除去
前工程 酸化膜・除去
先端技術 MEMS •ピュアオゾン・エチレン 洗浄・改質
分子線エピタキシー
(MBE)

•ピュアオゾン処理

純粋酸化源
プリンテッド・
エレクトロニクス

•低温成膜
•ピュアオゾン・エチレン

改質・密着・低温薄膜
この製品に関するお問い合わせ
営業戦略室

03-6420-8630

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