ピュアオゾンジェネレータとOER装置の2製品を紹介します。ピュアオゾンジェネレータは、高純度・高濃度（80％以上）のオゾンガスを安全に連続生成する装置で、主に半導体プロセスでの酸化源として利用されています。一方、OER装置は、ピュアオゾンとエチレンガスを用いてOHラジカルを発生させる装置で、表面改質や常温成膜などの化学反応を促進し、半導体製造や材料改質において効率的なプロセスを実現します。

高純度・高濃度オゾンガス発生装置
ピュアオゾンジェネレータ

高純度・高濃度（80％以上）のピュアオゾンガスを安全に連続供給。ALD／MBEなど真空プロセスの酸化源に最適です。

OER装置

ピュアオゾンとエチレンガスを混合し、OHラジカルを発生させる装置です。半導体製造や材料改質に利用されます。