表面処理

OER(Ozone-Ethylene Radical generation)は「短時間」 「常温」 で 「ダメージレス」な安定した表面処理を行えます。

無アルカリガラスへのOER改質(表面処理)

無アルカリガラス(100mm角)へOER処理した結果は以下となります。

液接触角(弊社実施条件)

未処理の接触角に対し、OER処理後は低接触角、超親水化となります。
プラズマと比較し、常温かつ短時間で表面処理が可能です。

条件 処理可能温度 処理の様子
未処理 - 33.7°
OER改質 15~30°C、35~70%RH 5.2°
O2プラズマ 処理時間:150℃
処理時間:8分
出力  :150W
6.8°

短時間・低温処理での超親水化

経時変化(ご参考:測定環境クリーンルーム内、20℃/50%)

OER処理後から3日間など長時間の改質効果を維持する事ができます。

表面粗さ

OERは化学反応で表面処理する為、下地への物理的なアタックはなく、基材表面のダメージレス、表面粗さ変化なしを実現できます。

未処理
OER改質
O2プラズマ

OERは表面ダメージレス、表面粗さ変化なし
プラズマは約3倍 表面が粗い、表面ダメージあり

親水化接合前処理

■OERはピュアオゾンとエチレンガスの混合でOHラジカルを発生させる為、水洗浄が不要です。
 その為、アニール温度を低減する事ができます。
■OERは下地基材との化学反応である為、プラズマ処理のような基材への物理的アタックはありません。
 その為、基材へのダメージレスを実現、かつ削る要素が無い為、ダストレスを実現できます。

従来技術(プラズマ親水化接合)

  • プラズマ不要
  • 基材へのダメージレス、ダストレス
  • フッ素に次ぐ酸化力で表面のダングリングボンドと反応
  • 水フリープロセスでのOH基直接修飾

ハイブリッド接合

東北大学様と実施したハイブリッド接合の事例です。

OERレジストアッシング

OERは常温でアッシングが可能です。高イオン注入後のフォトレジストもポッピング無しで除去
できます。またOERは化学反応で処理する為、処理炉の汚染が起きにくいです。

酸化剤 酸化還元電位[eV]
未処理 2.07
O* 2.42
OH* 2.85
フッ素 2.87

めっき前処理

OERはトレンチ構造への表面処理が可能です。ガスの回り込み性を生かし、トレンチへの改質、濡れ性向上により、めっき前処理にご提案できます。

トレンチ構造への表面処理が可能