表面処理
OER(Ozone-Ethylene Radical generation)は「短時間」 「常温」 で 「ダメージレス」な安定した表面処理を行えます。
無アルカリガラスへのOER改質(表面処理)
無アルカリガラス(100mm角)へOER処理した結果は以下となります。
液接触角(弊社実施条件)
未処理の接触角に対し、OER処理後は低接触角、超親水化となります。
プラズマと比較し、常温かつ短時間で表面処理が可能です。
| 条件 | 処理可能温度 | 処理の様子 | |
|---|---|---|---|
| 未処理 | - | 33.7° |
|
| OER改質 | 15~30°C、35~70%RH | 5.2° |
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| O2プラズマ | 処理時間:150℃ 処理時間:8分 出力 :150W |
6.8° |
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短時間・低温処理での超親水化
経時変化(ご参考:測定環境クリーンルーム内、20℃/50%)
OER処理後から3日間など長時間の改質効果を維持する事ができます。
表面粗さ
OERは化学反応で表面処理する為、下地への物理的なアタックはなく、基材表面のダメージレス、表面粗さ変化なしを実現できます。
OERは表面ダメージレス、表面粗さ変化なし
プラズマは約3倍 表面が粗い、表面ダメージあり
親水化接合前処理
■OERはピュアオゾンとエチレンガスの混合でOHラジカルを発生させる為、水洗浄が不要です。
その為、アニール温度を低減する事ができます。
■OERは下地基材との化学反応である為、プラズマ処理のような基材への物理的アタックはありません。
その為、基材へのダメージレスを実現、かつ削る要素が無い為、ダストレスを実現できます。
従来技術(プラズマ親水化接合)
- プラズマ不要
- 基材へのダメージレス、ダストレス
- フッ素に次ぐ酸化力で表面のダングリングボンドと反応
- 水フリープロセスでのOH基直接修飾
ハイブリッド接合
東北大学様と実施したハイブリッド接合の事例です。
OERレジストアッシング
OERは常温でアッシングが可能です。高イオン注入後のフォトレジストもポッピング無しで除去
できます。またOERは化学反応で処理する為、処理炉の汚染が起きにくいです。
| 酸化剤 | 酸化還元電位[eV] |
|---|---|
| 未処理 | 2.07 |
| O* | 2.42 |
| OH* | 2.85 |
| フッ素 | 2.87 |
めっき前処理
OERはトレンチ構造への表面処理が可能です。ガスの回り込み性を生かし、トレンチへの改質、濡れ性向上により、めっき前処理にご提案できます。
トレンチ構造への表面処理が可能