MBE用酸化源
ピュアオゾンは、MBE（分子線エピタキシー）法における酸化源として利用されています。ピュアオゾンは高い酸化力を持ち、高真空下での酸化プロセスにおいて、より高品質な薄膜を得ることができます。
接続実績
国内・海外 大手MBE装置採用・接続実績あり
高純度
重金属フリーのピュアオゾンガス
MBE用POGのご提案
| タイプ | バッチ式 | 準連続式 |
|---|---|---|
| 使用目的 | R&D用 | 準量産用 |
| オゾンチャンバ数 | 1 | 2 |
| オゾン蓄積量 | 16,000cc | 32,000cc |
| オゾン流量 | 10〜250sccm | 準連続流量 10〜150sccm |
| 装置構成 |
オゾンチャンバー1個構成による安価なR&Dタイプ。ピュアオゾン蓄積に約2時間かかります。 
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オゾンチャンバー2個構成によりオゾン「発生」と「蓄積」を繰り返す準連続供給式。1回/週のリジェネ動作（オゾンチャンバー再生）が必要 
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| タイプ | バッチ式 |
|---|---|
| 使用目的 | R&D用 |
| オゾン チャンバ数 |
1 |
| オゾン蓄積量 | 16,000cc |
| オゾン流量 | 10〜250sccm |
| 装置構成 |
|
| タイプ | 準連続式 |
|---|---|
| 使用目的 | 準量産用 |
| オゾン チャンバ数 |
2 |
| オゾン蓄積量 | 32,000cc |
| オゾン流量 | 準連続流量 10〜150sccm |
| 装置構成 |
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世界最高レベルのMBE成膜
ピュアオゾンにより平滑な表面と不純物除去を実現し、世界最高レベルのMBE成膜を実現します。
※国内・海外メーカ、研究機関、大学へ複数の採用実績あり
POGに求められる機能・仕様
| 低不純物 | 高純度(ppb)（競合レベル：ppmオーダー） |
|---|---|
| 高純度・高濃度 | 80％以上のオゾン濃度（競合レベル：20％未満） |
| 濃度可変(オプション) | 20~80％以上のオゾン濃度可変 ※オゾン濃度可変オプションもご提案可能です。 |
ピュアオゾンガスは金属汚染フリー
ピュアオゾンガス中に含まれる金属汚染なし。
次世代要素技術開発や、微細加工や超高純度工程において、メタル汚染のリスクを低減でき、製品製造の歩留まりや信頼性を向上が期待できます。
| 元素種 | Al | Ni | Cu | Mo |
|---|---|---|---|---|
| POG | <8.8×109
[atoms/㎠] 検出限界以下 |
<4.0×109
[atoms/㎠] 検出限界以下 |
<3.7×109
[atoms/㎠] 検出限界以下 |
<2.5×109
[atoms/㎠] 検出限界以下 |