OER技術について
OER（オゾン・エチレン反応）技術について
OERによるOHラジカル発生 当社独自の特許（特許番号：5217951）
OER（オゾン・エチレン反応）技術は、ピュアオゾン（高純度・高濃度オゾンガス）とエチレンガスを混合することでOHラジカルを効率的に発生させる技術です。
OHラジカルは非常に反応性が高く、様々な化学反応を促進するため、以下のような用途に利用されています。
表面改質
OHラジカルの高い反応性を利用して、材料表面の改質や洗浄を行います。これにより、表面の親水性向上や汚染物質の除去が可能です。
常温成膜
OHラジカルを利用して、低温での薄膜形成を可能にします。これにより、熱に敏感な材料にも適用できる成膜プロセスが実現します。
QCMセンサ 日本電波工業様
Quartz Crystal Microbalance（QCM）技術を
利用して微小重量変化を測定するセンサ
OHラジカル発生原理
ピュアオゾンとエチレンを減圧化、
基板直上でのガス混合によりOH*が発生。
これにより、均一で高密度な処理が実現します。
OHラジカルのリアルタイム計測
QCMセンサのポリイミド膜を活性ラジカルで
エッチングポリイミド膜の質量減少を周波数変化の換算で計測
- QCMセンサにポリイミド膜がコーティングされています。
- ピュアオゾンガスとエチレンガスを混合しているときのみ、酸化ラジカル（OHラジカル）が発生し、ポリイミド膜をエッチングします。
- エッチングによりポリイミド膜の質量が減少し、これがQCMセンサの周波数変化として検出しています。
- なお、10％程度オゾンガスにエチレンガスを混合しても、酸化ラジカルは発生しない為、ポリイミド膜をエッチングすることはできず、周波数変化はありません。
