特長
- 超高濃度オゾン(高純度オゾン)
従来法(5~10%)では実現できなかった高純度オゾンガス(≒100%)が利用できます。
- 重金属フリー
純度≒100%の液体オゾンから気化させて発生させるオゾンガスですので、原理的に重金属フリーです。特に半導体プロセスへの応用に適しています。
- 高い酸化力
減圧でサンプルのみを加熱する方法により、従来はできなかったオゾンのもつ高い酸化力を理想的状態で発揮できます。
- 複雑な形状も可能
減圧中で寿命の長いオゾン分子の形で届きますので複雑な表面形状の酸化にも適しています。
- 安全に利用可能
従来は取扱が難しかった超高濃度オゾン及び液体オゾンを、高純度とすることで安全に利用できます。また、その他の安全にたいしても十分配慮した構造となっており、取り扱いが容易になっています。
※安全機能については、数々の安全試験及び第三者認証機関による評価により検証しています。
特長
TYPE I MPOG-HM1A1 (連続発生機)

TYPE I MPOG-HM1A1 (連続発生機)
| 項目 |
性能 |
最大連続高純度 オゾン供給量 |
100sccm |
最大高純度 オゾン供給量 |
1000sccm (最大25分の供給が可能) |
| 液体オゾン純度 |
≒100% |
| 供給オゾンガス濃度 |
95%以上 (装置出口) |
| 流量安定性 |
±5%以内 |
| 最大供給圧力 |
10,000Pa (75Torr) |
| 最大液体オゾン蓄積量 |
39.0cc in liquid |
| 装置寸法※注1 |
W900×H1906×D700mm |
| 装置質量※注1 |
400kg |
| 安全機能 |
SEMI S2適合品※注2 機械・低電圧・ EMC指令適合品※注3 |
注1: 突起部、電源盤、冷凍機用コンプレッサ、オゾン除外器は除く。
注2: ティフ・ラインランド・ジャパン(株)でSEMI S2-0703の適合証明書発行済み。電気安全は欧州EN規格並びに国際IEC規格に準じ評価。
注3: ティフ・ラインランド・ジャパン(株)で適合証明書発行済み。
TYPE I MPOG-104A1 (研究用)

TYPE I MPOG-104A1 (研究用)
| 項目 |
性能 |
最大連続高純度 オゾン供給時間 (60sccmの場合) |
120分 |
最大高純度 オゾン供給量 |
500sccm (最大12分の供給が可能) |
| 液体オゾン純度 |
≒100% |
| 供給オゾンガス濃度 |
95%以上 (装置出口) |
| 流量安定性 |
±5%以内 |
| 最大供給圧力 |
10,000Pa (75Torr) |
| 最大液体オゾン蓄積量 |
10.0cc in liquid |
| 装置寸法 ※注1 |
W640×H1408×D720mm |
| 装置質量 ※注1 |
150kg |
| 安全機能 |
MPOG-HM1A1と同等 |
注1: 突起部、電源盤、冷凍機用コンプレッサ、オゾン除外器は除く。
Si酸化膜形成:低温化・高速酸化グラフ

Si酸化膜形成:低温化・高速酸化グラフ