多くの方にご来場頂き、盛況の内に終了致しました。ご来場頂きありがとうございました。
| 会期 | 2018年12月5日（水） - 2018年12月7日（金） |
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| 会場 | 幕張メッセ 2ホール ブースNO.10-23 |
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| 主催者 | リードエグジビジョン ジャパン㈱ |
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| 入場料 | 無料（事前登録必要） |
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| 概要 | 2018年4月 世界初 ピュアオゾンを使用し常温で酸化膜を作る技術を確立。
今回の展示会では、この技術を使い、純度≒100％の高純度オゾンガスを連続して生成できる装置 ピュアオゾンジェネレータのご紹介を行います。
フレキシブル有機ELディスプレイ分野、ＰＥ（プリンテッドエレクトロニクス）分野、フレキシブルエレクトロニクス分野等に使われる高機能フィルムの市場で活用頂ける製品です。
ピュアオゾンジェネレータは、オゾンを液化・蓄積し、連続で高純度オゾンガスを供給する装置です。
高純度のため、半導体プロセス用の酸素ラジカル発生源としても使用可能。
また、安全性・信頼性に関しても「高純度・減圧にして危険な反応をさせない」という思想のもと、安全な装置設計をしています。
ご来場の際はぜひお立ち寄りください。
ピュアオゾンジェネレータ 詳細はコチラ
http://www.meidensha.co.jp/products/industry/prod_03/prod_03_07/
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